先进的陶瓷涂层工艺

先进的陶瓷涂层工艺

近年来,半导体外延制造行业以及MOCVD(金属有机化学气相沉积系统)领域对于先进配件的需求日益上涨。

在需求猛增的环境下,贺利氏集团致力为客户提供定制化的,高质量的先进陶瓷涂层解决工艺。我们为客户提供耐热性能极佳的产品,更长的使用寿命替客户降低了成本。

我们先进的陶瓷涂层工艺除了可以应用在半导体和LED行业之中外,在电力以及其他的先进科技行业中也能得以应用。

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Semiconductor Applications

外延在现代半导体行业中是关键的一环,我们的化学气相沉积的碳化硅石墨涂层解决工艺有以下几大优势:

  • 拥有目前世界领先的制作工艺,能为客户提供高性能、长寿命的产品。
  • 拥有自主专利的CVD系统以及全自动化的过程控制为所制造的产品提供出色的均匀性和一致性。
  • 稳定性极强的衬底能经受住任何不稳定的环境
  • 达到化学计量平衡的涂料使产品拥有无与伦比的性能和强度
  • 对于大部分化学品都有极强的抵抗性,包括蚀刻剂和强酸
LED Applications

我们的碳化硅石墨涂层工艺除了能应用于外延领域的托盘制造,还应用于MOCVD 反应器上的晶圆托盘制造,是LED生产中的主要耗材。我们的碳化硅石墨涂层工艺在LED生产中有以下几大优势:

  • 稳固的衬底能经受住极端不稳定环境
  • 特殊的制造加工流程能制造出高精度、高质量的托盘。
  • 我们的碳化硅涂层在均匀性和一致性上达到行业领先水平,大幅改善了与温度控制以及晶圆之间的相关性能和数据
  • 业内知名工程师为您提供专业的全方位支持
  • 在硅上镀氮化镓,Al2O3上镀氮化镓以及碳化硅上镀氮化镓的工艺进程方面是公认的领导者
SiC Morphology
SiC Morphology

我们目前领先的碳化硅技术以及我们独特的工艺流程使得我们有能力为客户量身定制解决方案。我们的技术有以下几大优势:

  • 拥有自主知识产权的前期材质使我们的产品能达到了更长的寿命,按比投料的均衡
  • 气流解决方案使得镀膜速度史无前例地改变(~1 mil per hour)
  • 自动化控制过程能提供超出预期的均匀性
  • 兼容“精确复制”模式
  • 无缝隙,二次涂层延长使用寿命
  • 在10K级的洁净室进行全程操作
  • 纯净度<3PPM
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