Quarzglashohlzylinder für Halbleiteranwendungen

Hollow

Quarzglashohlzylinder werden in der Halbleiterfertigung für die Herstellung von Single Wafer Anlagen sowie für Plasmaätz- und Beschichtungssysteme benötigt. Heraeus Conamic stellt Quarzglashohlzylinder in verschiedenen Materialqualitäten und Abmessungen her. Die angebotenen Hohlzylinder zeichnen sich besonders durch hohe Reinheit und Materialhomogenität bei gleichzeitig geringem Blasengehalt aus.

Nachfolgend finden Sie einen Überblick über die verschiedenen Schmelzverfahren, die Heraeus Conamic nutzt, jeweils mit dem führenden Materialvorteil in diesem Segment.

Natürliches Quarzglas

Flammengeschmolzene Hohlzylinder

Heraeus Conamic verwendet ein kontinuierliches Schmelzverfahren für die Herstellung von TSC® flammengeschmolzenen Quarzglashohlzylindern. Dieses einzigartige Verfahren ermöglicht unseren Kunden die Verwendung eines Materials mit einem sehr geringen Anteil an Blasen und Einschlüssen bei gleichzeitig hoher Reinheit.

Synthetisches Quarzglas

Synthetisch hergestellte Hohlzylinder

Für die anspruchsvollsten Anforderungen der Halbleiterindustrie stellt Heraeus Conamic synthetische Hohlzylinder her. TSC-T® ist die entsprechende Materialqualität, die sich durch eine Reinheit im Bereich von parts per billion (Milliardstel) sowie keinerlei Blasen auszeichnet.

Weitere Informationen über TSC®

Quarzglashohlzylinder werden eingesetzt, um die strengen Anforderungen an Reinheit und visuelle Eigenschaften bei der Herstellung von Anlagen für die Single Wafer Verarbeitung, wie z.B. Fokusringe für Plasmaätzsysteme, zu erfüllen.

Das Portfolio von Heraeus Conamic umfasst mehrere Materialqualitäten, um alle OEM-Anforderungen zu erfüllen, einschließlich anspruchsvoller Spezifikationen für ultrahohe Reinheiten.