Quarzglasstäbe für Halbleiteranwendungen

Quartz rod

Quarzglasstäbe werden in der Halbleiterindustrie für die Fertigung von Komponenten für Batch-Verarbeitungs-Anlagen verwendet. Heraeus Conamic bietet Quarzglasstäbe in einer Vielzahl von Materialqualitäten und Abmessungen an. Die vorteilhaften Eigenschaften unserer Quarzglasstäbe sind ein geringer Blasengehalt, hohe Reinheit und enge geometrische Toleranzen.

Nachfolgend finden Sie einen Überblick über die verschiedenen Schmelzverfahren, die Heraeus Conamic nutzt, jeweils mit dem führenden Materialvorteil in diesem Segment.

Natürliches Quarzglas

Elektrisch geschmolzene Quarzglasstäbe
HSQ®100 Quarzglasstäbe werden in einem elektrischen Schmelzverfahren direkt gezogen . Dies ermöglicht eine kosteneffiziente Lösung für viele industrielle Anwendungen.

Für anspruchsvollere und high-end Halbleiteranwendungen bietet Heraeus Conamic mehrstufig elektrisch geschmolzene sowie direkt gezogene Quarzglasstäbe mit optimierten Eigenschaften in den Materialqualitäten HSQ®300, HSQ®330 und HSQ®330S an. Die benötigte Materialqualität hängt von den Reinheitsanforderungen der Kundenanwendung ab.

Dies resultiert in einer Materialqualität mit verbesserter Homogenität und niedrigem OH-Gehalt für eine hohe thermische Stabilität in der Endanwendung.

Weitere Informationen über HSQ®

Synthetisches Quarzglas

Synthetisch hergestellte Quarzglasstäbe

Heraeus Conamic stellt synthetische Quarzglasstäbe für modernste Halbleiteranwendungen her. HSQ®900 und Spectrosil sind dafür die geeigneten Materialqualitäten mit einer Reinheit im Bereich von parts per billion (Milliardstel) und keinerlei Blasen.

Quarzglasstäbe werden eingesetzt, um die strengen Anforderungen an Reinheit und visuelle Eigenschaften bei der Fertigung von Batchofen -Komponenten, wie z.B. Waferbooten, -trägern und -sockeln zu erfüllen.

Das Portfolio von Heraeus Conamic umfasst mehrere Materialqualitäten, um alle OEM-Anforderungen zu erfüllen, einschließlich anspruchsvoller Spezifikationen für ultrahohe Reinheit en.