Rapid Thermal Processing (RTP)

Blitzlampen sind sehr intensive UV- und IR-Quellen. Das kann in der Industrie genutzt werden:

  • Sie möchten metallische Tinte sintern, ohne die Folie zu erwärmen?
  • Sie wollen blitzschnell und in hoher Intensität desinfizieren?

Intelligente Arc und Flash Lampen können in solchen und ähnlichen RTP-Prozessen eingesetzt werden. Sehen Sie wie das funktioniert!



Rapid Thermal Processing bezeichnet Herstellungsprozesse:

  • in denen Materialien auf hohe Temperaturen erhitzt werden
  • innerhalb von Sekunden oder sogar Millisekunden

Diese schnellen Erwärmungsgeschwindigkeiten werden oft von Lampen mit hoher Intensität oder von Lasern erreicht.

Xenon-Blitzlampen werden in vielen Prozessen eingesetzt, bei denen hohe Ausgangsleistungen über ein breites Spektrum von 160 nm bis 1000 nm benötigt werden. Das abgestrahlte Licht kann als Energiequelle zum Härten, Erhitzen oder Tempern von Oberflächen und Beschichtungen verwendet werden. Blitzlampen können als kontinuierliche oder gepulste Lichtquellen eingesetzt werden und durch Veränderung der Pulsform, der Pulsdauer und der Stromdichte die Leistung für den von Ihnen gewünschten Wellenlängenbereich maximieren, um optimale Verarbeitungsergebnisse zu erzielen.

Mit der einzigartigen Kombination von Blitzlampentechnik, Systemdesign und Fachwissen über Leistungsabgabe und Vorhersage der Energiedichtehomogenität verfügt Heraeus Noblelight Arc and Flash über ideale Voraussetzungen, um Ihnen die effizienteste, maßgeschneiderte Lösung für Ihre Rapid Thermal Processing-Anforderungen anzubieten.

Xenon Flash Lampen sintern Kupfertinte sehr schnell und effizient. Hoch leitfähige und stabile elektronische Schaltkreise werden gebildet, das Substrat wird geschont.


Wenn Sie Interesse an diesem Thema haben lesen Sie bitte unser Anwendungsbeispiel.

Falls Sie mehr über Heraeus Flash Lampen für gedruckte Elektronik wissen möchten, sehen Sie sich unser Video zur LOPEC 2017 an.

Ihre Vorteile

  • UV- oder IR-Spektrum
  • Hohe Spitzen-Leistungsimpulse - Megawatt/cm2 (MW)
  • Kurze Pulsdauern - Mikrosekunden (µm)
  • Hohe Wiederholraten - Kilohertz (kHz)
  • Sofortiges Ein-/Ausschalten
  • Kein Wärmestau, dadurch Verarbeitung von hitzeempflindlichen Substraten bei hohen Temperaturen möglich
  • Integrierte Energieüberwachung
  • Einfacher Lampenwechsel
  • Integrierter QRC©-Reflektor für optimale Energiezufuhr
  • Hoher Durchsatz
  • Module sind aneinander reihbar und ermöglichen so größere Bestrahlungsflächen
  • Flexible Betriebssoftware
  • Einfache Integration in bestehende Anlagen
  • Nicht giftig (kein Quecksilber)

Anwendungsbereiche

Xenon-Strahlungspektrum
  • Sintern von Metalloxiden
  • Rapid Thermal Processing (RTP)
  • Flash Lamp Annealing (FLA) (Tempern mit Blitzlampen)
  • Prüfen von Fotozellen/-modulen
  • Härten
  • Desinfektion
  • Halbleiterverarbeitung
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