Herausforderungen in der Halbleiterfertigung

Halbleiterfertigung

Heutige Halbleiterprozesse müssen hohen Erwartungen hinsichtlich Zuverlässigkeit und Ausbeute gerecht werden.

Für Lithographieverfahren, Hochtemperaturprozesse und Prozesse in denen reaktive Chemikalien zum Einsatz kommen ist Quarzglas ein unverzichtbares Material.

Es muss sichergestellt werden, dass Prozessreinheit und Anlagenverfügbarkeit stets Ihren Anforderungen entspricht.

Weitere Informationen zu Herausforderungen in optischen Anwendungen

Heraeus unterstützt Sie beim Entwurf von Bauteilen, Auswahl eines optimalen Materials sowie bei der Fertigung Ihres individuellen Produktes.

Beschichtungs- und Hochtemperaturprozesse

Die Herausforderungen, denen sich moderne Beschichtungsprozesse gegenübersehen, sind die Gleichförmigkeit der Temperatur und des Gasflusses und damit letztlich der abgeschiedenen Schichten. Um die erforderliche hohe Prozessausbeute zu erzielen, müssen Verunreinigungen und die Entstehung von Partikeln vermieden werden.

  • Herausforderungen in Bezug auf die Gleichförmigkeit:
    Um eine optimale Gleichförmigkeit der abgeschiedenen Schichten zu erzielen, ist eine exakte Steuerung der Temperatur und des Gasflusses entscheidend.
    Optimaler Gasfluss wird durch enge Maßtoleranzen und die maßgeschneiderte Bauform der Quarzkomponenten gewährleistet. Für ein optimiertes Wärmemanagement bietet Heraeus eine einzigartige opake Materiallösung an.
    Weitere Informationen für den optimalen Entwurf von Bauteilen aus Quarzglas
    Weitere Informationen zur einzigartigen opaken Materiallösung
  • Herausforderungen in Bezug auf die Verunreinigungen und Entstehung von Partikeln:
    Eine Ursache für die Entstehung von Partikeln bei plasmagestützten Beschichtungsprozessen liegt im Blasengehalt des Quarz-glases. Um diese Herausforderung zu bewältigen, hat Heraeus ein breites Portfolio von Materialien mit niedrigem Blasengehalt entwickelt.
    Verunreinigungen im Quarzglas gewinnen aufgrund der schrumpfenden Strukturgrößen in der Halbleiterfertigung mehr und mehr an Bedeutung. Heraeus stellt hochreine natürliche und synthetische Halbzeuge aus Quarzglas, bietet aber auch gefertigte Komponenten und Bauteile an.
    Weitere Informationen zu synthetischen Materialqualitäten

Ätzverfahren

Wartungsintervalle bestimmen die Verfügbarkeit Ihrer Ätz- und Veraschungsanlagen. Eine wesentliche Ursache für Anlagen-Ausfallzeiten aufgrund von Wartungsarbeiten ist die, Überschreitung von Partikel-Grenzwerten.

Blasen im Quarz tragen bei Plasmaätzprozessen zur Entstehung von Partikeln bei. Diese Tatsache gewinnt angesichts schrumpfender Strukturgrößen, die zu immer kleineren akzeptablen Partikelgrößen und -zahlen führen, mehr und mehr an Bedeutung.
Um diese Herausforderung gezielt anzugehen, hat sich Heraeus auf die Entwicklung kostengünstiger Materialien mit niedrigem Blasengehalt konzentriert.
Weitere Informationen zu Materialien mit niedrigem Blasengehalt

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