| 2024 |
T. Tiess, M. Lorenz, J.-W. Lee, M. Schmitt, J. E. Beavers, E. P. Green, N. L. Andersen, A. C. Samson, F. N. Andersen, S. Cwalina, K. Habel, Q. Ma, M. Böttcher, K. Schuster: „Record length of 2000km weakly-coupled 7-core MCF produced from a single large-scale MCF preform”, OFC 2024 conference (to be published by Optica Publishing Group by June 2024) |
| 2024 |
D. Soma, S. Beppu, L. Galdino, M. Lorenz, Q. Ma, K. Iwasaki, S. Sumita, K. Komatsu, D. J. Elson, T. Kiriyama, K. Kito, K. Kitamura, H. Takahashi, N. Yoshikane, T. Kato, T. Tsuritani, M. Böttcher, A. Meissner, K. Bennett, S. Makovejs, Y. Wakayama: “18,090-km 2-core Fiber Transmission Using Circulatory Directional Fan-in/Fan-out Devices”, OFC 2024 conference (to be published by Optica Publishing Group by June 2024) |
| 2023 |
A.Langner, M.Fischer, P.Bauer, G.Schötz, „Fused silica step-index fibers tailored for applications from UV to IR wavelength range“ (Stufenindexfasern aus Quarzglas für Anwendungen vom UV- bis zum IR-Wellenlängenbereich), Prot. SPIE 12414, Hochleistungslaser-Materialbearbeitung: Anwendungen, Diagnostik und Systeme XII, 124140I |
| 2023 |
P.Raithel, A.Langner, M.Belz, S.Kaiser, D.Reul, K.-F.Klein, „Influence of light-sources on UV fiber damage measured with DIN standard 58145“ (Einfluss von Lichtquellen auf die UV-Faserschädigung gemessen mit DIN-Norm 58145), Prot. SPIE 12372, Optische Fasern und Sensoren für medizinische Diagnostik, Behandlung und Umweltanwendungen XXIII, 123720A |
| 2023 |
Y.Lei, H.Wang, L.Skuja, B.Kühn, B.Franz, Y.Svirko, P.G.Kazansky , „Ultrafast laser writing in different types of silica glass“ (Ultraschnelles Laserschreiben in verschiedene Arten von Quarzglas), Laser Photonics Rev 2023, 2200978 |
| 2023 |
M. Lorenz, T. Tieß, F. Marschal, M. Böttcher, K. Schuster, S. Cwalina, C.Kottke, K. Habel, Industrial scaled MCF – Design, Fabrication and Characterization, Vortrag 24th ITG-Symposium, Leipzig 08.05.2023 |
| 2023 |
M. Böttcher, T. Tiess, M. Lorenz, K. Schuster, "Weakly-coupled trench-assisted MCF for long-haul applications," Kommunikationskabelnetze; 30. ITG-Fachtagung, Köln, 2023, pp. 77-79
https://ieeexplore.ieee.org/document/10461393 |
| 2023 |
M. Lorenz, T. Tiess, F. Marschal, M. Böttcher, K. Schuster, S. Cwalina, C. Kottke, K. Habel: "Industrial scaled MCF – Design, Fabrication and Characterization," Photonic Networks; 24th ITG-Symposium, Berlin, 2023, pp. 1-4
https://ieeexplore.ieee.org/document/10173067
|
| 2022 |
B. Franz, „Fused Silica: A Transparent Look at a Complex Material“ (Quarzglas: Ein transparenter Blick auf ein komplexes Material), Photonics Spectra, Dez. 2022, S. 40-43 |
| 2022 |
M. Straub, R. Bonk, K. Schuster, M. Böttcher, T. Tiess, K. Habel, S. Cwalina, C. Kottke, P. Runge, J.-C. Olaya, N. Ledentsov, I. Koltchanov: "SAMOA-Net project: Multicore fiber based PON architectures," Communication Cable Networks; 29th ITG Symposium, Cologne, Germany, 2022, pp. 1-6.
https://ieeexplore.ieee.org/document/10071707 |
| 2022 |
W.Schlichting, B.Kühn, F.Nürnberg, „Optimized fused silica used in new astronomical applications“ (Optimiertes Quarzglas für neue astronomische Anwendungen), Prot. SPIE 12188, Advances in Optical and Mechanical Technologies for Telescopes and Instrumentation V, 1218803 (29. August 2022) |
| 2022 |
M. Böttcher: "Anwendungspotenziale für Multikernfasern", Communication Cable Networks; 29th ITG Symposium, Cologne, Germany, 29.11.2022.
https://www.vde.com/resource/blob/2230718/02155faed0c6a6899c57d6af4ac733c3/martin-boettcher-data.pdf |
| 2022 |
F. Lindner, C. Aichele, A. Kalide, A. Scheffel, R. Müller, V. Reichel, T. Tiess, K. Schuster, K. Wondraczek, Chlorine incorporation into SiO2 beyond the chemical equilibrium, Optical Materials 131 (2022) 112696 |
| 2021 |
F.Nürnberg, B.Kühn, „Bulk LIDT variances of fused silica – a material developer's perspective“ (LIDT-Abweichungen von Quarzglas – die Perspektive eines Materialentwicklers), Prot. SPIE 11910, Laser-induzierte Beschädigung in optischen Materialien 2021, 119100R (12. Oktober 2021) |
| 2021 |
R.Jedamzik, U.Petzold, F.Nürnberg, B.Kühn, G.von der Gönna, „Optical Materials“ (Optische Materialien), SPIE press book, A.Zhang, R.Youngworth, „Review of Optical Manufacturing 2000 to 2020“ (Überblick über die optische Fertigung 2000 bis 2020), Kapitel 2, S. 11 – 70 (September 20, 2021) |
| 2020 |
M.Leich, M.Lorenz, T.Eschrich, A.Kalide, A.Lorenz, K.Wondraczek, D.Schönfeld, A.Langner, G.Schötz, M.Jäger, „Fluor co-doped Large-Mode-Area fiber for 2 megawatt peak power generation in tapered amplifiers“ (Mit Fluor kodotierte Large-Mode-Area-Faser für 2 Megawatt Spitzenleistung in Tapered Amplifiers), Optics Letters, Juni 2020 |
| 2019 |
G.Lu, „The Simplest and Most Successful Experiment Onboard Apollo 11“ (Das einfachste und erfolgreichste Experiment an Bord von Apollo 11), Scientific American (11. Juli 2019) |
| 2018 |
K.-F.Klein, P.Raithel, R.Yadav, J.Shannon, R.Timmerman, B.Kühn , „Multimode silica-based fiber-optic delivery system for pulsed Nd-YAG lasers in UV region“ (Multimode-Faseroptiksystem auf Siliziumdioxidbasis für gepulste Nd-YAG-Laser im UV-Bereich), Prot. SPIE, Laser-induzierte Beschädigung in optischen Materialien 2018: Konferenz zum 50. Jahrestag (24. September 2018) Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar. |
| 2016 |
F.Nürnberg, B.Kühn, K.Rollmann, „Metrology of Fused Silica“ (Metrologie von Quarzglas), Prot. SPIE 10014, Laser-Induced Damage in Optical Materials 2016, 100140F (6. Dezember 2016) |
| 2016 |
M.Stamminger, „Chemische Reaktion von Wasserstoff mit synthetischem Quarzglas zwischen 500 und 900°C“, Phys. Chem. Gläser: Eur. J. Glass Sci. Technol. B, Februar 2016, 57 (1), 15–20 |
| 2015 |
F.Nürnberg, M.Altwein, B.Kühn, A.Langner, G.Schötz, R.Takke, S.Thomas, J.Vydra, „Bulk damage and absorption in fused silica due to high-power laser applications“ (Schädigung und Absorption in Quarzglas durch Hochleistungslaseranwendungen), (2015) SPIE Laser Damage, 27.-30. September 2015, Boulder |
| 2015 |
F.Röser, M.Löser, D.Albach, M.Siebold, U.Schramm, S.Grimm, D.Brand, A.Langner, G.Schötz, D.Schönfeld, „Broadband, diode-pumped Yb-doped fused bulk silica laser“ (diodengepumpter Yb-dotierter Breitband-Quarzglaslaser), Optical Materials Express (2015) Vol. 5, No. 4, 704 -711 |
| 2015 |
M. Stamminger, „Ultraviolet transmission spectrum of synthetic fused silica containing molecular oxygen“ (Ultraviolettes Transmissionsspektrum von synthetischem Quarzglas, das molekularen Sauerstoff enthält), GOMD-DGG Joint Annual Meeting, 17.-21. Mai 2015, Miami |
| 2014 |
M.Stamminger, M.Hofmann, S.Kaiser, „193 nm excimer laser irradiation of hydrogen- and deuterium-doped synthetic fused silica“ (193 nm Excimer-Laser-Bestrahlung von Wasserstoff- und Deuterium-dotiertem synthetischem Quarzglas), Phys. Chem. Gläser: Eur. J. Glass Sci. Technol. B, Dezember 2014, 55 (6), 237–242 Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2014 |
M.Stamminger, „Numerical modeling of hydrogen species distributions resulting from fused silica manufacturing processes“ (Numerische Modellierung von Wasserstoffspezies-Verteilungen, die aus Herstellungsprozessen von Quarzglas resultieren), DGG – ACerS GOMD Joint Conference, Aachen, 29. Mai 2014 |
| 2014 |
F.Nürnberg, M.Stamminger, B.Kühn, M.Altwein, R.Takke, „IR grade fused silica for high-power laser applications“ (IR-Qualität von Quarzglas für Hochleistungslaseranwendungen), ICOL 2014, Dehradun, India, 5.-8. März 2014 Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2014 |
Yiwen Wu, Haihu Yu, Su Chen, R.Sattmann, Beibei Cao, Jie Luo, „Effects of impurity dilution in preforms on attenuation and strength of optical fiber“ (Auswirkungen der Verdünnung von Verunreinigungen in Vorformen auf Dämpfung und Festigkeit von Glasfasern), Journal of Non-Crystalline Solids 383 (2014) 81–85 |
| 2013 |
A.Langner, M.Such, G.Schötz, F.Just, M.Leich, S.Grimm, J.Dellith, M.Jäger, K.Schuster, H.Zimer, M.Kozak, B.Wedel, G.Rehmann, C.Bachert, V.Krause, „Extra-Large-Mode-Area- (XLMA) Faserlaser“, Thüringer Werkstofftag 2013 |
| 2013 |
M.Stamminger, M.Hofmann, S.Kaiser, „193 nm Excimerlaserbestrahlung von mit Wasserstoff und Deuterium dotiertem synthetischem Quarzglas“, Tagung der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft 2013 Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2013 |
A.Langner, M.Such, G.Schötz, F.Just, M.Leich, S.Grimm, J.Dellith, M.Jäger, K.Schuster, H.Zimer, M.Kozak, B.Wedel, G.Rehmann, C.Bachert, V.Krause, „Design evolution, long term performance and application tests of extra large mode area (XLMA) fiber lasers“ (Designentwicklung, Langzeitleistung und Anwendungstests von XLMA(Extra Large Mode Area)-Faserlasern), Prot. SPIE 8237, Fiber Lasers IX: Technology, Systems, and Applications, 82370F (February 9, 2012) |
| 2012 |
F.Nürnberg, M.Stamminger, B.Kühn, M.Altwein, R.Takke, „IR grade fused silica for high-power laser applications“ (Quarzglas in IR-Qualität für Hochleistungslaseranwendungen), ICUIL 2012, Mamaia, Rumänien, 16.-21. September 2012 |
| 2012 |
A.Langner, M.Such, G.Schötz, F.Just, M.Leich, A.Schwuchow, S.Grimm, H.Zimer, M.Kozak, B.Wedel, G.Rehmann, C.Bachert, V.Krause, „Multi-kW single fiber laser based on an extra large mode area fiber design“ (Multi-kW Einzel-Faserlaser basierend auf einem Faserdesign mit extra großer Modenfläche), Prot. SPIE 8237, Fiber Lasers IX: Technology, Systems, and Applications, 82370F (February 9, 2012) |
| 2012 |
M.Stamminger, D.-K.Lee, M.Nebe, J.Janek, „Electrical conductivity of quartz glass measured by impedance spectroscopy between 600°C and 1100°C“ (Elektrische Leitfähigkeit von Quarzglas gemessen durch Impedanzspektroskopie zwischen 600°C und 1100°C), Phys. Chem. Gläser: Eur. J. Glass Sci. Technol. B, Oktober 2012, 53 (5), 181–185 |
| 2011 |
M.Leich, F.Just, A.Langner, M.Such,G.Schötz, T.Eschrich, S.Grimm, „Highly efficient Yb-doped silica fibers prepared by powder sinter technology“ (Hocheffiziente Yb-dotierte Siliziumdioxidfasern, hergestellt durch Pulversintertechnologie), OPTICS LETTERS Vol. 36, No. 9 (2011) 1557-1559 |
| 2011 |
M.Stamminger, B.Kühn, S.Ochs, „New Data on the Equilibrium Constant and Reaction Rate of Hydrogen in Synthetic Fused Silica By Annealing Experiments and Finite-Element-Simulation of the Reaction-Diffusion-Process“ (Neue Daten zur Gleichgewichtskonstante und Reaktionsgeschwindigkeit von Wasserstoff in synthetischem Quarzglas durch Glühversuche und Finite-Elemente-Simulation des Reaktions-Diffusions-Prozesses), Tagung der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft 2011 Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2011 |
M.Stamminger, D.-K.Lee, M.Nebe, J.Janek, „Electrical Conductivity of Quartz Glass Measured by Impedance Spectroscopy between 600°C and 1100°C“ (Elektrische Leitfähigkeit von Quarzglas, gemessen durch Impedanzspektroskopie zwischen 600°C und 1100°C), International Conference on the Chemistry of Glasses and Glass-forming Melts, Oxford, 2011 |
| 2011 |
A.Langner, M.Such, G.Schötz, S.Grimm, F.Just, M.Leich, C. Mühlig, J. Kobelke, A. Schwuchow, O.Mehl, O.Strauch, R. Niedrig, B.Wedel, G. Rehmann, V.Krause, „New developments in high power fiber laser based on alternative materials“ (Neue Entwicklungen bei Hochleistungs-Faserlasern auf der Basis alternativer Materialien), Prot. Of SPIE Vol. 7914-66, Faserlaser VIII: Technologie, Systeme und Anwendungen |
| 2010 |
A.Langner, M.Such, G.Schötz, V.Reichel, S.Grimm, F.Just, M.Leich, J.Kirchhof, B.Wedel, G.Köhler, O.Strauch, O.Mehl, V.Krause, G.Rehmann, „Development, manufacturing and lasing behavior of Yb-doped ultra large mode area fibers based on Yb-doped fused bulk silica“ (Entwicklung, Herstellung und Laserverhalten von Yb-dotierten Fasern mit extrem großer Modenfläche auf der Basis von Yb-dotiertem Quarzglas), Prot. SPIE 7580, Faserlaser VII: Technologie, Systeme und Anwendungen, 75802X (Februar 17, 2010) |
| 2010 |
M.Stamminger, B.Kühn, E.Arnold, H.-D.Witzke, F.-J.Schilling, A.Schreiber, C.Neumann, „Photoluminescence of Oxygen Deficiency Centers in Fused Quartz – Effect of Thermal Treatment“ (Photolumineszenz von Sauerstoffmangelzentren in Quarzglas – Einfluss der thermischen Behandlung), 12. Internationalen Symposium über Wissenschaft und Technologie von Lichtquellen (2010) Eindhoven, Niederlande Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2010 |
B.Kühn, E.Arnold, H.-D.Witzke, F.-J.Schilling, M.Stamminger, B.Uebbing, „Boundary Conditions for the Saturation and Amplitude of Induced Absorption in Synthetic Fused Silica“ (Randbedingungen für die Sättigung und Amplitude der induzierten Absorption in synthetischem Quarzglas), 8th Symposium „SiO2, Advanced Dielectrics and Related Devices“ (2010) Varenna, Italien Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2010 |
U.Klett, B.Kühn, D. Kassube, S.Thomas, „Measurement of Absorption in Fused Silica Using a Photo-Thermal Setup“ (Messung der Absorption in Quarzglas unter Verwendung einer photothermischen Anordnung), 8th Symposium „SiO2, Advanced Dielectrics and Related Devices“ (SiO2, fortschrittliche Dielektrika und verwandte Bauelemente) (2010) Varenna, Italien Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2010 |
C.Mühlig, S.Bublitz, S.Grimm, A.Langner, G.Schötz, „Characterization of preform raw materials for high power fiber lasers using LID absorption measurement technique“ (Charakterisierung von Preform-Rohstoffen für Hochleistungs-Faserlaser unter Verwendung der LID-Absorptionsmesstechnik), Laser-Induced Damage in Optical Materials: 2010. Herausgegeben von Exarhos, Gregory J.; Gruzdev, Vitaly E.; Menapace, Joseph A.; Ristau, Detlev; Soileau, M. J. Proceedings of the SPIE, Band 7842, S. 78421M-78421M-6 (2010) |
| 2009 |
D.D. Gollera, R.T. Phillips, I.G. Sayce, „Structural relaxation of SiO2 at elevated temperatures monitored by in situ Raman scattering“ (Strukturelle Relaxation von SiO2 bei erhöhten Temperaturen, beobachtet durch in situ Raman-Streuung), Journal of Non-Crystalline Solids, Volume 355, Issues 34–36 (2009) 1747–1754 |
| 2009 |
A.Langner, G.Schötz, M.Such, V.Reichel, S.Grimm, M.Leich, S.Unger, J.Kirchhof, B.Wedel, V.Krause, G.Rehmann, „Comparison of silica-based materials and fibers in side- and end-pumped fiber lasers“ (Vergleich von Siliziumdioxid-basierten Materialien und Fasern in seiten- und endgepumpten Faserlasern), Prot. SPIE 7195, Faserlaser VI: Technologie, Systeme und Anwendungen, 71950Q (19. Februar 2009) |
| 2009 |
A.Hofmann, C.Schenk, R.Uhlig, „Optical quartz glass windows for high concentrated thermal power plants“ (Optische Quarzglasfenster für hochkonzentrierte thermische Kraftwerke), SolarPACES 15.-18. September 2009, Berlin, Deutschland Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2008 |
B.Kühn, R.Schadrack, „Thermal expansion of synthetic fused silica as a function of OH content and fictive temperature“ (Thermische Ausdehnung von synthetischem Quarzglas als Funktion des OH-Gehalts und der fiktiven Temperatur), Journal of Non-Crystalline Solids 355 (2009) 323–326 |
| 2007 |
B.Kühn, S.Kaiser, T.Miege, B.Uebbing, K.Mann, „Minimizing Losses in Synthetic Fused Silica for Immersion Lithography“ (Minimierung von Verlusten in synthetischem Quarzglas für die Immersionslithographi), (2007) 4th International Symposium on Immersion Lithography, Keystone, Colorado, USA |
| 2007 |
S.Schröder, B.Kühn, A.Duparré, A.Tünnermann, „Volumenstreuung von synthetischem Quarzglas bei 193 nm“, (2007) 108. DGaO-Tagung, Heringsdorf |
| 2007 |
D.Schönfeld, U.Klett, C.Mühlig, D.Thomas, „Measurement of initial absorption of fused silica at 193nm using laser induced deflection technique (LID)“ (Messung der anfänglichen Absorption von Quarzglas bei 193 nm mit der laserinduzierten Ablenkungstechnik (LID)), Prot. SPIE 6720, Laser-induzierte Schäden in optischen Materialien: 2007, 67201A (Dezember 20, 2007) |
| 2006 |
A.Langner, G.Schötz, J.Vydra, „Speciality fibres for light transmission from UV to IR“ (Spezialfasern für die Lichttransmission von UV bis IR), Photonik 3/2006 Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2006 |
S.Schröder, B.Kühn, A.Duparré, „Hochsensitive Bestimmung der Verluste von synthetischem Quarzglas für die 193nm Immersionslithographie“, Fraunhofer IOF Jahresbericht (2006) 90-91 |
| 2006 |
S.Franke, H.Lange, H.Schloepp, H.-D.Witzke, „Temperature deopendence of VUV transmission of synthetic fused silica“ (Temperaturabhängigkeit der VUV-Transmission von synthetischem Quarzglas), J. Phys. D: Angew. Phys. 39 (2006) 3042–3046 |
| 2006 |
S.Schröder, M.Kamprath, A.Duparré, A.Tünnermann, B.Kühn, U.Klett, „Bulk scattering properties of synthetic fused silica at 193 nm“ (Bulk-Streuungseigenschaften von synthetischem Quarzglas bei 193 nm), OPTICS EXPRESS Vol. 14, No. 22 (2006) 10537-10549 |
| 2006 |
B. Kühn, B. Uebbing, S. Schröder, A. Duparré, H. Nishimura, Y. Ikeda, „Intrinsic Optical Properties of Synthetic Fused Silica for 193 nm Immersion Lithography“ (Intrinsische optische Eigenschaften von synthetischem Quarzglas für die Immersionslithographie bei 193 nm), (2006) 3th International Symposium on Immersion Lithography, Kyoto |
| 2005 |
D. Schönfeld, T. Reuter, R. Takke. S.Thomas, „Stitching Oil-On Interferometry of Large Fused Silica Blanks“ (Stitching-Öl-Interferometrie von großen Quarzglas-Rohlingen), Optical Fabrication, Testing, and Metrology II, herausgegeben von Angela Duparre, Roland Geyl, Lingli Wang, Proceedings of SPIE Vol. 5965 (2005) |
| 2005 |
B.Kühn, S.Kaiser, I.Radosevic, B.Uebbing, S.Thomas, „Synthetic Fused Silica tailored for 193nm Immersion Lithography“ (Synthetisches Quarzglas maßgeschneidert für 193nm Immersionslithographie), (2005), 2nd International Symposium on Immersion Lithography, Brügge, Belgien |
| 2005 |
K.H.Chang, J.P.Fletcher, J. Rennell, A. Nakajima, J.Vydra, R. Sattmann, „Next Generation Fiber Manufacturing for the Highest Performing Conventional Single Mode Fiber“ (Faserherstellung der nächsten Generation für die leistungsstärkste konventionelle Einzelmodusfaser), Optical Fiber Communication Conference (2005) Anaheim, Kalifornien, USA |
| 2004 |
K.Lyytikäinen, S.T.Huntington, A.L.G.Carter, P.McNamara, S.Fleming, J.Abramczyk, I.Kaplin, G.Schötz, „Dopant diffusion during optical fibre drawing“ (Dotierstoffdiffusion während des Ziehens von Glasfasern), Optics Express, Vol. 12, Issue 6, S. 972-977 (2004) |
| 2004 |
P.Matthijsse, D.R.Simons, Zhang Shuqiang, Luo Jie, J.Vydra, H.Fabian, „Towards the low limits of 1383 nm loss in PCVD enabled single mode fibre production“ (Auf dem Weg zu den niedrigen Verlusten bei 1383 nm in der PCVD-gestützten Herstellung von Monomode-Fasern), Optical Fiber Communication Conference (2004) OFC (Volume:1) |
| 2003 |
B.Kühn, B.Uebbing, M.Stamminger, I.Radosevic, S.Kaiser, „Compaction versus expansion behavior related to the OH-content of synthetic fused silica under prolonged UV-laser irradiation“ (Verdichtungs- und Ausdehnungsverhalten in Abhängigkeit vom OH-Gehalt von synthetischem Quarzglas bei längerer UV-Laserbestrahlung), Journal of Non-Crystalline Solids 330 (2003) 23-32 |
| 2003 |
D.Mueller, W.Triebel, A.Bochmann, G.Schmidl, D.Eckardt, A.Burkert, J.Roeper, M.Schwerin, „Two-dimensional concentration and temperature measurements in extended flames of industrial burners using PLIF“ (Zweidimensionale Konzentrations- und Temperaturmessungen in ausgedehnten Flammen von Industriebrennern mit PLIF), SPIE Proceedings Vol. 5191, Optical Diagnostics for Fluids, Solids, and Combustion II, Patrick V. Farrell; Fu-Pen Chiang; Carolyn R. Mercer; Gongxin Shen, Editors, S. 66-74 |
| 2003 |
D. Schönfeld, B. Kühn, W. Englisch, R. Takke, „Interferometry at the physical limit: how to measure sub-parts-per-million optical homogeneity in fused silica“ (Interferometrie an der physikalischen Grenze: Messung der optischen Homogenität in Quarzglas im Sub-Parts-per-Million-Bereich), APPLIED OPTICS Vol. 42, No. 10 (2003) 1814-1819 |
| 2003 |
B.Kühn, „searching for degradation“ (Auf der Suche nach Abbau), SPIE's OE Magazine April (2003) 40 Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2001 |
D.Schönfeld, B.Kühn, A.Steinert, R.Takke, „How to measure sub-ppm optical homogeneity in fused silica: impact of temperature on accuracy and reproducibility“ (Messung der optischen Homogenität im sub-ppm-Bereich in Quarzglas: Einfluss der Temperatur auf Genauigkeit und Reproduzierbarkeit), Proceedings of SPIE Vol. 4449 (2003) 102-110, Optical Metrology Roadmap for the Semiconductor, Optical, and Data Storage Industries II, Angela Duparre; Bhanwar Singh; Eds. |
| 2001 |
W.Kaiser, N.Gilson, „Quarzglas und Quarzgut“, „Heraeus – Pioniere der Werkstofftechnologie; Von der Hanauer Platinschmelze zum internationalen Technologieunternehmen“, Piper Verlag GmbH, München 2001 |
| 2001 |
H.-D.Witzke, A.Schreiber, U.Klett, B.Uebbing, „172 nm Excimer lamp irradiation of F-doped SiO2-glasses with different pretreatments compared with pure and Cl-doped glasses“ (172 nm Excimer-Leuchten-Bestrahlung von F-dotierten SiO2-Gläsern mit unterschiedlichen Vorbehandlungen im Vergleich zu reinen und Cl-dotierten Quarzgläsern), Prot. XIX Int. Congr. Glass, Edinburgh, 1–6 Juli 2001 Phys. Chem. Brillen, 2002, 43C, 155–8 Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 2001 |
H.-D.Witzke, „Recent studies on fused quartz and synthetic fused silica for light sources“ (Aktuelle Studien über natürliches und synthetisches Quarzglas für Lichtquellen), Protokolle des 9. Internationalen Symposiums über Wissenschaft und Technologie von Lichtquellen LS9 (2001) 357-368, Ithaca |
| 2000 |
U.Haken, O.Humbach, S.Ortner, H.Fabian, „Refractive index of silica glass : influence of fictive temperature“ (Brechungsindex von Quarzglas: Einfluss der fiktiven Temperatur), Journal of Non-Crystalline Solids 265 (2000) 9-18 |
| 2000 |
B.Uebbing, „Modification of fused silica for 157nm applications“ (Modifizierung von Quarzglas für 157nm Anwendungen), Materialica 2000, Materials Week, München (2000) |
| 1999 |
B.Uebbing, J.Vydra, St.Thomas, R.Takke, „Modified fused silica for 157nm mask substrates“ (Modifiziertes Quarzglas für 157nm Maskensubstrate), Proceedings of SPIE Vol. 3996 (2000) 218-223, 16th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, München |
| 1999 |
J. Vydra, G. Schötz, „Improved all silica fibers for deep UV-applications“ (Verbesserte Quarzglasfasern für tiefe UV-Anwendungen), Prot. SPIE Vol. 3596 (1999) 165-175 Specialty Fiber Optics for Medical Applications: 1999 Abraham Katzir; James A. Harrington; Eds. |
| 1999 |
R. Takke, „Excimer Lasers Challenge Glass Manufacturers“ (Excimer-Laser fordern Glashersteller heraus), Ausgabe Oktober/November 1999 von EuroPhotonics Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 1998 |
J. Kirchhof, S. Unger, B. Knappe, H.-J.Pissler, K.Ruppert, R.Köppler, „Chlorine Incorporation into silica lightguide materials“ (Einbau von Chlor in Siliziumdioxid-Lichtleitermaterialien), Optical Fiber Communication Conference and Exhibit Technical Digest San Jose, 22.-27. Feb. 1998, S. 185-186 |
| 1998 |
G.Lu, G.Schötz, J.Vydra, D.Fabricant, „Optical fiber for UV-IR broadband spectroscopy“ (Optische Faser für UV-IR-Breitbandspektroskopie), Prot. SPIE 3355, Optische astronomische Instrumente, 884 (9. Juli 1998) |
| 1998 |
H.-D.Witzke, R.Takke, „Luminescence and ESR Properties of Ce/Ti-doped fused quartz“ (Lumineszenz- und ESR-Eigenschaften von Ce/Ti-dotiertem Quarzglas), 18th International Congress on Glass, San Francisco (1998) Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 1997 |
G. Schötz, J. Vydra, G. Lu, D. Fabricant, „New Silica Fiber for Broad-Band Spectroscopy“ (Neue Silica-Faser für Breitband-Spektroskopie), Fiber Optics in Astronomy III. ASP Conference Series, Vol. 152, 1998, ed. S. Arribas, E. Mediavilla, und F. Watson (1998). Bericht über eine Tagung in Puerto de la Cruz, Kanarische Inseln, Spanien, 2. bis 4. Dezember 1997 |
| 1997 |
V.Uhl, K.O.Greulich, St.Thomas, „Comparison of the influence of the fictive temperature and the annealing temperature on the UV-transmission properties of synthetic fused silica“ (Vergleich des Einflusses der fiktiven Temperatur und der Glühtemperatur auf die UV-Transmissionseigenschaften von synthetischem Quarzglas), Anw. Phys. A 6 5, 457-462 (1997) |
| 1996 |
O.Humbach, H.Fabian, U.Grzesik, U.Haken, W.Heitmann, „Analysis of OH absorption bands in synthetic silica“ (Analyse von OH-Absorptionsbanden in synthetischem Quarzglas), Journal of Non-Crystalline Solids 203 ( 1996) 19-26 |
| 1996 |
St.Thomas, B.Kühn, „KrF Laser induced absorption in synthetic fused silica“ (KrF Laser-induzierte Absorption in synthetischem Quarzglas), Proceedings of SPIE Vol. 2966 (1997) 56-64, Laser-Induced Damage in Optical Materials: 1996, Harold E. Bennett; Arthur H. Guenther; Mark R. Kozlowski; Brian E. Newnam; M. J. Soileau; Eds. |
| 1996 |
R. Takke, R. Eckl, E. Bériot, A. Roussel, „Optical fused quartz and fused silica for high energy lasers“ (Optisches natürliches und synthetisches Quarzglas für Hochenergie-Laser), Prot. SPIE Vol. 3047 (1996) 919-930 |
| 1996 |
E.Eva, K.Mann, St.Thomas, „Pulse-length dependence of absorptance and degradation rate of fused silica at 248 nm“ (Pulslängenabhängigkeit der Absorption und der Abbaugeschwindigkeit von Quarzglas bei 248 nm), 28th Annual Symposium on Optical Materials for High Power Lasers, Boulder, Colorado, USA (1996) 72-79 (Prot. SPIE 2966) |
| 1994 |
St.Thomas, W.Englisch, R.Takke, „Effect of Excimer Laser Radiation on the Optical Properties of Synthetic Fused Silica“ (Wirkung von Excimer-Laser-Strahlung auf die optischen Eigenschaften von synthetischem Quarzglas), Glass Sci. Technol. 67C (1994) 19-24, 5. Internationales Otto-Schott-Kolloquium |
| 1994 |
H.-D.Witzke, R.Takke, St.Thomas, W.Englisch, „Absorption and Luminescence Properties of Ce/Ti-doped fused quartz“ (Absorptions- und Lumineszenzeigenschaften von Ce/Ti-dotiertem Quarzglas), Glastech. Ber. Glass Sci. Technol. 67 C (1994) 346-349 |
| 1993 |
W.Englisch, „Quarzglas für die Optik“, Feinwerktechnik und Messtechnik Nr. 9 (1993) Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 1993 |
H. Fabian, U. Grzesik, G. Hillrichs, W. Neu, „Optical fibers with enhanced performance for excimer laser power transmission at 308 nm“ (Optische Fasern mit verbesserter Leistung für die Leistungsübertragung von Excimer-Lasern bei 308 nm), Proc. SPIE 1893, Optical Fibers in Medicine VIII, 24 (28. Mai 1993) |
| 1992 |
U.Grzesik, H.Fabian, W.Neu, G.Hillrichs, „Reduction of photodegradation in optical fibers for excimer laser applications“ (Verringerung der Photodegradation in optischen Fasern für Excimer-Laser-Anwendungen), Prot. SPIE 1649, Optical Fibers in Medicine VII, 80 (1. August 1992) |
| 1992 |
D.H.Levy, K.K.Gleason, M.Rothschild, J.H.C.Sedlacek, R.Takke, „Reactions of hydrogenated defects in fused silica caused by thermal treatment and deep ultraviolet irradiation“ (Reaktionen von hydrierten Defekten in Quarzglas durch thermische Behandlung und tiefe ultraviolette Bestrahlung), Anw. Phys. Lett. 60, 1667 (1992) |
| 1992 |
N.Leclerc, C.Pfleiderer, H.Hitzler, J.Wolfrum, K.O.Greulich, S.Thomas, W.Englisch, „Luminescence and transient absorption bands in fused SiO2 induced by KrF laser radiation at various temperatures“ (Lumineszenz und transiente Absorptionsbanden in geschmolzenem SiO2, induziert durch KrF-Laserstrahlung bei verschiedenen Temperaturen), Journal of Non-Crystalline Solids 149 ( 1992) 115-121 |
| 1991 |
N.Leclerc, C.Pfleiderer, H.Hitzler, J.Wolfrum, K.O.Greulich, St.Thomas, H.Fabian, R.Takke, W.Englisch, „Transient 210-nm absorption in fused silica induced by high-power UV laser irradiation“ (Vorübergehende 210nm-Absorption in Quarzglas, induziert durch Hochleistungs-UV-Laserbestrahlung), OPTICS LETTERS, Vol. 16, No. 12 (1991) 940-942 |
| 1991 |
J.Wolfrum, K.O.Greulich, R.Takke, R.Kunstmann, „Lichtwellenleiter für Excimerlaser“, VDI Technologiezentrum Physikalische Technologien, Info Börse Laser No. 7 (1991) Bitte kontaktieren Sie uns für ein Exemplar |
| 1990 |
N.Leclerc, C.Pfleiderer, H.Hitzler, St.Thomas, R.Takke, W.Englisch, J.Wolfrum, K.O.Greulich, „KrF excimer laser induced absorption and fluorescence bands in fused silica related to the manufacturing process“ (KrF-Excimerlaser-induzierte Absorptions- und Fluoreszenzbanden in Quarzglas im Zusammenhang mit dem Herstellungsprozess), SPIE Vol 1327 Properties and Characteristics of Optical Glass II (1990) 60-68 |
| 1979 |
H.-D.Witzke, W. Göbke (Übersetzer), „Physikalisch-chemische Untersuchungen der Struktur und der Eigenschaften des Kieselglases“, Kombinat VEB NARVA „Rosa Luxemburg“, Berliner Glühleuchtenwerk, Leitstelle für wiss.-techn. Information, Berlin 1979 |
| 1976 |
G.Hetherington, J.A.Winterburn, „Electrical methods for production of fused quartz“ (Elektrische Methoden zur Herstellung von Quarzglas), 8th Congress, Union Int. d'Electrothermie, 1976, Lüttich, Section3, Ref.6 |
| 1976 |
D.N.Casey, G.Hetherington, J.A.Winterburn, B.Yates, „The Influence of the hydroxyl content upon the specific heat capacity of vitreous silica at elevated temperatures“ (Der Einfluss des Hydroxylgehaltes auf die spezifische Wärmekapazität von Quarzglas bei erhöhten Temperaturen), Physics and Chemistry of Glasses, Vol. 17 (1976) 77-82 |
| 1972 |
G. Hetherington, L. W. Bell, „Vitreous Silica“ (Gläsernes Siliziumdioxid), Ultrapurity – Methods and Techniques, herausgegeben von M. Zief und R. Speight (1972) Kapitel 15 |
| 1968 |
H.E.Mohn, F. Cooke, „Hanau Quartz Glass for Optical Components of High Precision for Use in Measurement Technology, Astronomy, and Space Research“ (Hanauer Quarzglas für hochpräzise optische Komponenten für den Einsatz in der Messtechnik, Astronomie und Weltraumforschung), Anw. Opt. 7, 368-371 (1968) |
| 1065 |
T. Dunn, G. Hetherington, K. H. Jack, „The high-temperature electrolysis of vitreous silica Part 2. Active electrodes and anisotropic electrolytes“ (Die Hochtemperatur-Elektrolyse von glasartigem Siliziumdioxid Teil 2. Aktive Elektroden und anisotrope Elektrolyte), Physics and Chemistry of Glasses, Vol. 6, No. 1 (1965) 6-15 |
| 1965 |
G. Hetherington, K. H. Jack, M. W. Ramsay, „The high-temperature electrolysis of vitreous silica Part I. Oxidation, ultraviolet induced fluorescence, and irradiation colour“ (Die Hochtemperatur-Elektrolyse von glasartigem Quarzglas Teil I. Oxidation, ultraviolett-induzierte Fluoreszenz und Bestrahlungsfarbe), Physics and Chemistry of Glasses, Vol. 6, No. 1 (1965) 16-23 |
| 1964 |
G.Hetherington, K.H.Jack, J.C. Kennedy, „The viscosity of vitreous silica“ (Die Viskosität von glasartigem Siliziumdioxid), Physics and Chemistry of Glasses, Vol. 5, No. 5 (1964) 130-137 |
| 1964 |
G. Hetherington, K. H. Jack, „The oxidation of vitreous silica“ (Die Oxidation von glasartigem Siliziumdioxid), Physics and Chemistry of Glasses, Vol. 5, Issue 5 (1964) 147-149 |
| 1962 |
T. Bell, G.Hetherington, K.H.Jack, „Water in vitreous silica Part 2: Some aspects of hydrogen-water-silica equilibria“ (Wasser in glasartigem Siliziumdioxid Teil 2: Verschiedenee Aspekte des Wasserstoff-Wasser-Kieselsäure-Gleichgewichts), Physics and Chemistry of Glasses, Vol. 3, No. 5 (1962) 141-146 |
| 1962 |
G. Hetherington, K. H. Jack, „Water in vitreous silica Part I. Influence of 'water' content on the properties of vitreous silica“ (Wasser in glasartiger Kieselsäure Teil I. Der Einfluss des Wassergehalts auf die Eigenschaften von glasartiger Kieselsäure), Physics and Chemistry of Glasses, Vol. 3, No. 4 (1962) 129-133 |
| 1961 |
K.Rau, „Die Homogenität des Quarzglases“, „60 Jahre Quarzglas; 25 Jahre Hochvakuumtechnik“, W.C. Heraeus GmbH, Hanau 1961 |
| 1961 |
A.Dietzel, „Untersuchungen an Quarzglas“, „60 Jahre Quarzglas; 25 Jahre Hochvakuumtechnik“, W.C. Heraeus GmbH, Hanau 1961 |
| 1961 |
H.Mohn, „Über neuere optische Quarzgläser und ihre Anwendungen“, „60 Jahre Quarzglas; 25 Jahre Hochvakuumtechnik“, W.C. Heraeus GmbH, Hanau 1961 |
| 1956 |
H.Mohn, „Über Quarzgläser, welche die ozonbildende Strahlung unterhalb 2000 Å absorbieren“, Glastechnische Berichte, 29. Jahrgang, Heft 12 (1956) 483-487 |
