架橋剤は、半導体産業において不可欠な存在です。ポリマーと結合することでポリマー鎖を作り、メモリおよびロジックチップ製造の要となるフォトレジスト溶液を生成します。
経験は財産です
へレウスは、お客様の知的財産の保護に配慮しつつ、製造過程や製品の規模を簡単に調整できるようにするため、30年以上にわたってお客様と協力し、考えられる最高の基準を達成してきました
ヘレウスEpurioには、半導体レジスト用の最高純度のグリコールウリルをベースに架橋剤を製造してきた長い伝統があります。あらゆる規模の生産でホルムアルデヒドと塩化メチレンの汚染を制御できる処理法を開発し、発展させてきました。
よりクリーンな新基軸
ヘレウスによる、低金属汚染で、塩化メチレンやホルムアルデヒドを含まない製品は、半導体産業に新基軸を打ち立てています。さまざまな化学構造調整により、昇華傾向を非常に低いレベルにすることに成功しました。金属不純物を各々10 pbb未満に削減していますが、これはますます小型化・高精細化していくメモリおよびロジックチップの生産において肝要なポイントです。
顧客との連携
へレウスEpurioは、お客様との緊密な協力のもと、お客様の個々の製造ニーズに合わせて架橋剤をカスタマイズしています。
