光酸発生剤(PAG)

マイクロチップの小型化と半導体チップの計算処理能力の向上が絶え間なく続くことで、フォトリソグラフィー工程の需要は高まります。 ヘレウスEpurioのPAGは、主要な各層のレジストそれぞれに合わせた独自の特性を提供可能です。

光酸発生剤(PAG)

1969年に人類を初めて月に送るために、当時使うことのできた計算処理能力以上のものを、今日スマートフォンで誰もが当たり前に使っています。この驚くべき進歩は、マイクロチップの小型化と半導体チップの計算処理能力の絶え間ない進歩によって可能になりました。

ワイヤレス接続、自動車の機能向上、IoT(モノのインターネット)の隆盛は、最高レベルの要求を満たす力を持った半導体の需要の増加という形で表れています。超高純度の特殊化学品は、メモリおよびロジックチップの生産において重要な各層を形成する為のフォトリソグラフィ工程で使用される基本的な原料です。

かつてヘレウス・デイケムとして知られていたヘレウスEpurio は、30年以上にわたってオハイオ州デイトンで電子グレードの光活性材料を生産してきました。選び抜かれた光吸収部位(クロモファー)と酸を組み合わせて、最高の解像度を備えた主要なフォトレジスト向けにユニークな製品群を提供してきました。

これらの製品のほとんどは、99.5%を超える純度と、26種類のメタルイオンにおいて各10ppb未満の含有量であるUP(Ultra Pure)品質でご提供できます。これにより、レジスト解像度の新しい領域にも従来の化学反応が利用できるようになりました。

ヘレウスでは、お客様の「ニーズ」が非常に重要であると考えております。私たちは、お客様との緊密な協力のもとで、これからもお客様のビジネスに最適なソリューションをご提供できよう常に努力してまいります。少量バッチからスケールアップまで製品対応を行います。そして、お客様の知的財産を保護しながら生産の規模拡大をサポートいたします。

i-lineおよびブロードバンド露光向けPAG

さまざまな化学増幅レジスト用途向けの中で、高感度で良好な可溶性を持つi-line PAGの需要が近年高まっています。この要求に応えるため、ヘレウスEpurioはi-line、ブロードバンド、さらにはg/h-line向け製品群を開発しました。

純度は、当社で実証済みの電子グレードの品質を適用可能です。生産では、ほとんどのPAGをコスト効率よく最大トンレベルまでスケールアップできるため、半導体後工程やディスプレイ用レジストに適しています。

弱酸PAG

敏感な樹脂システムには弱酸が必要です。へレウスEpurioは、既存のシステムに代わる費用対効果の高い代替品として、実証済みの高感度なクロモファーと弱酸の組み合わせを提供しています。これら製品群は、最高の純度と品質の要件を常に満たしています。

熱酸発生剤

厚膜レジストの需要を満たすため、ポストベーク中の最終硬化を可能にする熱酸発生剤を含むレジスト配合が増えています。 へレウスEpurioでは、さまざまな酸放出温度を備えた特許フリーの製品群を提供しています。半導体後工程用途では、半導体グレードの純度に加え、コスト・パフォーマンスが求められています。

他の光重合開始剤

すでに特許フリーとなっている技術に基づいて、ヘレウスでは、代表的なレジスト溶剤への溶解度が高く、高感度で熱安定性の高い光重合開始剤を製造および販売を行っています。これらは、主要なレジストメーカー様にて認定されており、半導体前工程だけでなく、ディスプレイレジストと半導体後工程のレジスト配合に対し、費用対効果の高いソリューションを提供します。