パルスフラッシュランプ – キセノンおよびクリプトン

パルスフラッシュランプ

ヘレウスは、DCパルス式フラッシュランプ(キセノン、クリプトン)を固体レーザー製造メーカーや、IPL、疑似太陽光シミュレータといったレーザ以外のアプリケーション向けに提供してきた長年の実績があります。ヘレウスのフラッシュランプは標準的に、高い平均出力において、パルス持続時間がミリ秒から、数キロヘルツもの繰り返しレートで動作します。高効率、安定性、長寿命が特長です。

典型的なレーザアプリケーションには、精密切断および穴開け、スポット溶接、鋳型修理があります。レーザ以外のアプリケーションには、IPL、疑似太陽光シミュレーション、半導体プロセスがあります。ヘレウスは、お客様に高品質のフラッシュランプを提供するために、広範囲にわたる社内外の研究施設や機関において、お客様と密に連携しています。

お客様のメリット:

  • 高品質の原材料と徹底した検査
  • 高標準の製造とトレーサビリティ
  • 一貫した製造品質
  • さまざまなランプの接続が可能
  • すべてのランプを仕様に基づいて試験
  • 高い製造能力
  • きめ細やかな顧客サポート
  • 優れた技術知識
  • 高度な専門知識
  • 特許取得済み陰極設計、Hi-Charge™シリーズ
  • 強化したHIT®イグニッション

パルス式レーザーランプのデータシート(英語)

アプリケーション分野:

  • 溶接、切断、穴開け、マーキング向け産業用レーザ
  • 急速加熱プロセス(RTP)
  • 耐候試験とソーラシミュレーション
  • 美容および医療用レーザアプリケーション
  • UV硬化
  • アニーリング
  • 焼結
  • 距離測定
  • 殺菌
Xenon filled flash lamp

パルス式キセノン・フラッシュランプ

一般的なキセノン・フラッシュランプは、レーザシステムのポンプ光源として使用されています。キセノンの出力スペクトルは、Nd:YAGや他の多くのレージング物質の吸収波長とほぼ一致しています。しかし、160nm~1000nmという広帯域スペクトルによって、他の多くのアプリケーションで利用されています。

パルス形状、パルス持続時間、電流密度を変えることにより、多くのアプリケーション分野で出力を最大化できます。被覆材はUV出力をフィルタリングまたは強化するようにカスタマイズでき、水銀や金属ハロゲン化物といった有害な添加物を使用せずにご希望のスペクトルを得られます

ヘレウスは豊富な相互参照リストにある広い範囲の標準フラッシュランプを設計およびご提供できます。さらにお客様のご要望に合わせたカスタム設計サービスも承っています。

Krypton filled flash lamp

パルス式クリプトン・フラッシュランプ

フラッシュランプは、クリプトンガスや、時にはクリプトンとキセノンの混合ガスを充填することもできます。クリプトンガスは、Nd:YAGの吸収スペクトルに合う、特に低い16kWcm2以下の出力密度でのライン放射が可能で、一部のレーザアプリケーションではより適したものとなります。
6kWcm2以上の出力密度では、連続放射となるため、キセノンはより効率が高くなります。

ヘレウスのキセノン、クリプトンフラッシュランプの詳細はこちら!

Xenon flash lamp system

フラッシュシステム

ヘレウスは、キセノン・フラッシュランプの製造と設計の経験を基に、キセノン・フラッシュのカスタム設計サービスを提供しています。



ヘレウス・フラッシュシステムの主な特長:

  • UVからIRのスペクトル
  • 高いピーク出力パルス
  • 短いパルス持続時間 – マイクロ秒(us)
  • 速い繰り返し速度 – キロヘルツ(kHz)
  • 瞬時ON/OFFサイクル
  • 低温基板への高温プロセス
  • 内蔵されたエネルギー監視モニター
  • 容易なランプ交換
  • 最適なエネルギー透過のためのQRC©リフレクター
  • 高いスループット
  • 積み重ね可能なモジュールにより、より広い照射面積を実現
  • フレキシブルなソフトウェア
  • 外部システムと容易に統合
  • Hgの使用なし

フラッシュランプシステムの詳細はこちら

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