black.infrared - 新しい赤外線加熱

加熱プロセスに優れた均熱性と効率化を

black.infrared

高純度を求められる画期的な加熱プロセス: 中波長領域の赤外線を高出力で放射する初の赤外線ヒーター。真空条件下での加熱プロセスに優れた均熱性と効率化が可能になりました。

新開発: ヘレウスのblack.infraredは、研究開発用途向けもご用意があります。簡易試験やプロセスの検証用として最適です。

  • 照射距離を離すほど、輻射エネルギー強度が低減します。
  • 通常の石英管ヒーターの場合、距離が長くなるほど均熱性が上がります。
  • 最適な照射距離とは、強度と均熱性のバランスになります。
  • black.infraredヒーターは、照射距離に関係なく、加熱表面の優れた均熱性を持つように設計されています。
面状の赤外線ヒーターblack.infrared
black.infraredは新しく開発された面状赤外線ヒーターです
  • 半導体
  • クリーンルームでの使用
  • 真空条件下でのプロセス
  • 太陽電池
  • ガラス
  • 印刷
  • コーティング乾燥

black.infraredは、エネルギー波長約2.5μmの中波長赤外領域の波長と、高出力を兼ね備えた、非常にユニークなヒーターです。

中波長赤外領域の赤外線照射は、特にガラス、プラスチック、コーティングなどのアプリケーションに適しています。

サーマルカメラが示すblack infrared の均熱性の様子

非接触での赤外線放射は、真空条件下での加熱プロセスに最適です。

  • 高エネルギー密度(最高200kW/m2
  • 中波長赤外領域の2~2.5μm でピーク温度は1000℃
  • 非常に優れた均熱性
  • 非接触加熱のため、真空アプリケーションに最適
  • 高純度(シリコンと酸素のみ)
  • 早い応答性
  • カスタム設計可能な高いフレキシブル性
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