高純度熱處理的革命：首個能夠以高功率傳輸有效紅外中波的紅外輻射器，在高純度真空條件下也能實現極為均勻的熱處理。
創新：我們的black.infrared技術現在可用於實驗室系統，使測試和驗證過程變得更加簡單！
black.infrared - 重新定義紅外加熱
為嚴苛加熱工藝提供極佳的均勻性和高效性
- 輻射源的光強隨著距離增大而減弱。
- 對於石英管輻射器，均勻性隨著距離增大而提升。
- 最佳工作範圍是光強和均勻性之間的平衡。
- black.infrared輻射器的設計使得輻射表面允許最佳的均勻性，而與距離無關。
- 半導體
- 潔淨室應用
- 真空條件下的工藝
- 光伏
- 玻璃應用
- 印刷
- 塗層
black.infrared輻射器將約2.5 μm中波紅外光與高電能相結合。該組合迄今為止是獨一無二的。中波紅外輻射尤其適用於玻璃、塑膠和大多數塗層工藝。
通過紅外輻射進行的非接觸式能量傳輸是真空條件下的加熱工藝的理想選擇。
高功率密度 (高達200 kW/m2)
中波光譜，峰值溫度1000 °C，2-2.5 μm
突出的紅外輻射均勻性
適應於非接觸的真空應用
高純度（僅矽和氧）
快速反應時間
靈活的模組化幾何形狀