フラッシュランプは、連続またはパルス光源として動作することができ、パルス形状、持続時間または電流密度を変更することで、目的の波長範囲の出力を最大化し、最適なプロセス結果を達成できます。
フラッシュランプ技術、システム設計、電気、エネルギー密度の均一性など、エクセリタスノーブルライトは表面加熱、瞬間加熱などの用途に最も効果的なカスタマイズソリューションをご提供しています。
キセノン･フラッシュランプによる表面加熱・瞬間加熱
キセノン・フラッシュランプ（キセノンランプ）は、UVからIR光までの160nm〜1000nmの広帯域スペクトルにわたって幅広いスペクトル出力があり、高出力のパルスを1秒以下の短いパルス幅で発光することができます。このため、1 秒以下の瞬間で、例えば表面またはコーティングの硬化、加熱またはアニーリングなど、加熱物の表面温度を一気に高温まで上昇させる処理で使用することができます。
表面加熱・瞬間加熱には波長700nm以上の赤外線が必要になります。
キセノン・フラッシュランプの特徴を活かした表面加熱・瞬間加熱の用途:
- 加熱物の表面だけを短時間で加熱する場合
- 加熱物の表面だけを一気に数百度まで上昇させる場合
- 薄いフィルムやフィルム状のコーティングを加熱する場合
- 1 秒以下という短時間での加熱が必要な場合
- 加熱が必要な場所や物の周りに熱影響を及ぼしたくない場合
- 加熱後の冷却時間を短縮し、生産性を上げたい場合
- 加熱時以外はランプを消して省エネルギーを実現したい場合
プリンテッドエレクトロニクスでは、電子回路を形成するための有機材料または金属含有インクを焼結・乾燥する必要があります。
真空紫外から中波長赤外領域までの光源を取り扱うエクセリタスノーブルライトでは、UV（紫外線）、IR（赤外線）、Xe（キセノン）による焼結・乾燥プロセスをご提案しています。
キセノンフラッシュランプによる銅ナノインクの焼結プロセスの様子を動画でご覧ください。