またフラッシュランプは、連続またはパルス光源として動作することができ、パルス形状、持続時間または電流密度を変更することで、目的の波長範囲の出力を最大化し、最適なプロセス結果を達成できます。
フラッシュランプ技術、システム設計、電気、エネルギー密度の均一性など、ヘレウスは表面加熱、瞬間加熱などの用途に最も効果的なカスタマイズソリューションをご提供いたします。
表面加熱・瞬間加熱には波長700nm以上の赤外線が必要になります。キセノン・フラッシュランプ(キセノンランプ)は、UVからIR光までの160nm〜1000nmの広帯域スペクトルにわたって幅広いスペクトル出力があり、高出力のパルスを1秒以下の短いパルス幅で発光することができます。このため、1 秒以下の瞬間で、例えば表面またはコーティングの硬化、加熱またはアニーリングなど、加熱物の表面温度を一気に高温まで上昇させる処理で使用することができます。
またフラッシュランプは、連続またはパルス光源として動作することができ、パルス形状、持続時間または電流密度を変更することで、目的の波長範囲の出力を最大化し、最適なプロセス結果を達成できます。
フラッシュランプ技術、システム設計、電気、エネルギー密度の均一性など、ヘレウスは表面加熱、瞬間加熱などの用途に最も効果的なカスタマイズソリューションをご提供いたします。
キセノンフラッシュランプは銅インクを高速にかつ効率的に焼結します。高い導電性と安定的な電子回路は、温度感受性基材にダメージを与えることなく形成することができます。
2017年LOPEC(オーガニック&プリント・エレクトロニクス産業国際見本市・会議)でご紹介した導入事例をご紹介いたします。