キセノン・フラッシュランプによる表面加熱・瞬間加熱

キセノン・フラッシュランプ(キセノンランプ)は、UVからIR光までの160nm〜1000nmの広帯域スペクトルにわたって幅広いスペクトル出力があり、高出力のパルスを1秒以下の短いパルス幅で発光することができます。このため、1 秒以下の瞬間で、例えば表面またはコーティングの硬化、加熱またはアニーリングなど、加熱物の表面温度を一気に高温まで上昇させる処理で使用することができます。

表面加熱・瞬間加熱には波長700nm以上の赤外線が必要になります。

キセノンフラッシュランプの160nm〜1000nmの広帯域スペクトル

フラッシュランプは、連続またはパルス光源として動作することができ、パルス形状、持続時間または電流密度を変更することで、目的の波長範囲の出力を最大化し、最適なプロセス結果を達成できます。

フラッシュランプ技術、システム設計、電気、エネルギー密度の均一性など、ヘレウス・ノーブルライトは表面加熱、瞬間加熱などの用途に最も効果的なカスタマイズソリューションをご提供しています。

キセノン・フラッシュランプの特徴を活かした表面加熱・瞬間加熱の用途:

プリンテッドエレクトロニクス
  • 加熱物の表面だけを短時間で加熱する場合
  • 加熱物の表面だけを一気に数百度まで上昇させる場合
  • 薄いフィルムやフィルム状のコーティングを加熱する場合
  • 1 秒以下という短時間での加熱が必要な場合
  • 加熱が必要な場所や物の周りに熱影響を及ぼしたくない場合
  • 加熱後の冷却時間を短縮し、生産性を上げたい場合
  • 加熱時以外はランプを消して省エネルギーを実現したい場合
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