급속 열처리(Rapid Thermal Processing, RTP)

플래시 램프는 매우 강력한 UV 소스 및 IR 소스입니다. 이 램프는 다음과 같은 산업 분야에서 이용할 수 있습니다.

  • 필름의 가열 없이 금속성 잉크를 소결하길 원하시나요?
  • 번개처럼 빠르고 높은 강도로 살균하길 원하시나요?

지능적인 아크 및 플래시 램프는 그런 유사한 RTP 공정에 사용할 수 있습니다. 어떻게 작동하는지 살펴보세요!

크세논 출력 스펙트럼



다음과 같은 제조 공정을 급속 열처리라고 부릅니다.

  • 수 초 또는 심지어 밀리 초 이내에
  • 재료를 높은 온도로 가열

강도가 높은 램프나 레이저를 이용한다면 이러한 빠른 가열 속도를 얻을 수 있습니다.

제논 플래시 램프는 160nm ~ 1000nm의 넓은 스펙트럼에 걸친 높은 출력의 전력이 필요한 많은 공정에 사용됩니다. 방출되는 빛은 표면과 코팅의 경화, 가열 또는 어닐링을 위한 에너지 소스로 이용할 수 있습니다. 플래시 램프는 지속적인 라이트 소스 또는 펄스 라이트 소스로 이용할 수 있고, 펄스 형태, 펄스 길이 및 전류 밀도를 바꾸어서 최대한 처리 결과를 달성할 수 있도록 원하는 파장 범위에 맞게 출력을 극대화할 수 있습니다.

Heraeus의 Noblelight Arc and Flash는 플래시 램프 기술, 시스템 설계, 그리고 출력과 에너지 밀도 균일성 예상에 대한 전문 지식을 독창적으로 조합하여, 급속 열처리 요건에 맞는 가장 효율적인 맞춤 솔루션을 제공하기에 이상적인 조건을 갖추고 있습니다.

장점

  • 자외선 또는 적외선 스펙트럼
  • 높은 피크 출력 펄스 - 메가와트/cm2(MW)
  • 짧은 펄스 길이 – 마이크로세컨드(µm)
  • 높은 반복률 - 킬로헤르츠(kHz)
  • 즉각적인 스위치 온/오프
  • 열 축적 없음, 그로 인해 높은 온도에서 열에 민감한 기판 가공 가능
  • 에너지 감시 기능 내장
  • 간단한 램프 교체
  • 최적의 에너지 공급을 위해 내장된 QRC© 반사판
  • 뛰어난 효율성
  • 모듈을 나란히 배치할 수 있고 따라서 더 넓은 방출면 가능
  • 유연한 운영 소프트웨어
  • 기존 시스템에 간단하게 통합
  • 독성 없음(수은 없음)

응용 범위

크세논 출력 스펙트럼
  • 금속 산화물 소결
  • 급속 열처리(Rapid Thermal Processing, RTP)
  • FLA(Flash Lamp Annealing)(플래시 램프를 이용한 어닐링)
  • 포토셀/포토 모듈 시험
  • 경화
  • 살균
  • 반도체 가공